{"id":22537,"date":"2026-03-04T09:45:48","date_gmt":"2026-03-04T08:45:48","guid":{"rendered":"https:\/\/www.m-q.ch\/?p=22537"},"modified":"2026-03-04T09:45:48","modified_gmt":"2026-03-04T08:45:48","slug":"kontamination-von-wafern-besser-erkennen","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.m-q.ch\/de\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/","title":{"rendered":"Kontamination von Wafern besser erkennen"},"content":{"rendered":"
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Scanr\u00f6hrchen mit mitgef\u00fchrtem Tropfen bei gleichzeitig drehendem Wafer f\u00fcr Oberfl\u00e4chenanalyse. (Bild: Fraunhofer IPMS)<\/figcaption><\/figure>\n

Wafer sind d\u00fcnne, kreisf\u00f6rmige Scheiben aus Halbleitermaterial, die als Grundlage f\u00fcr die Herstellung von Mikrochips und anderen elektronischen Bauteilen dienen. Die Qualit\u00e4t und Reinheit der Waferoberfl\u00e4che sind entscheidend f\u00fcr die Funktionalit\u00e4t und Leistungsf\u00e4higkeit der Endprodukte. Um Kontaminationen zu erkennen und zu quantifizieren, werden verschiedene Charakterisierungsverfahren angewandt. Diese wurden nun am Fraunhofer IPMS um die Ultraspurenelementanalyse erweitert. Dabei wird nach dem \u00c4tzen von 200- oder 300-mm-Wafern mit HF-Dampf (Flusss\u00e4ure) ein Tropfen auf die Waferoberfl\u00e4che aufgebracht und \u00fcber diese bewegt. Der Tropfen sammelt die auf der Oberfl\u00e4che vorhandenen, l\u00f6slichen R\u00fcckst\u00e4nde ein und wird dann auf ein Volumen von 1 ml aufgef\u00fcllt. Mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) werden die gel\u00f6sten Elemente anschliessend analysiert. So liefert das Verfahren genaue quantitative Informationen \u00fcber die gel\u00f6sten Elemente auf der Waferoberfl\u00e4che.<\/p>\n

Die Ultraspurenelementanalyse bietet umfassende M\u00f6glichkeiten: So werden Oberfl\u00e4chen- und Bevel-Scans durchgef\u00fchrt, um 39 Elemente mit HF-Scanl\u00f6sung zu analysieren, was eine detaillierte Charakterisierung der Waferoberfl\u00e4che erm\u00f6glicht. F\u00fcr spezielle Anwendungen kann dar\u00fcber hinaus K\u00f6nigswasser als Scanl\u00f6sung f\u00fcr f\u00fcnf Edelmetalle verwendet werden.<\/p>\n

Laborausstattung am Fraunhofer IPMS<\/strong><\/h3>\n

Das Labor ist mit modernstem Equipment ausgestattet, darunter die VPD-Anlage Wafer Surface Preparation System WSPS2 von PVA Tepla und das Massenspektrometer iCap RQ von Thermo Scientific. Diese Technologien erm\u00f6glichen eine genaue Charakterisierung und Qualit\u00e4tssicherung in der Halbleiterindustrie. Mit dieser Erweiterung festigt das Fraunhofer IPMS seine Position als f\u00fchrendes Forschungsinstitut im Bereich der 300-mm-Waferprozessierung und tr\u00e4gt zur Verbesserung der Produktionsqualit\u00e4t in der Halbleiterfertigung bei.<\/p>\n

Quelle: Fraunhofer IPMS<\/a><\/em><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Das Fraunhofer-Institut f\u00fcr Photonische Mikrosysteme IPMS erweitert seine Analysef\u00e4higkeiten im Bereich der Waferkontamination. In einem dedizierten Labor wird dazu die etablierte Methode der Dampfphasenzersetzung in Kombination mit der Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (VPD-ICP-MS) eingesetzt. Damit ist eine genaue \u00dcberwachung der Waferoberfl\u00e4chenkontamination m\u00f6glich. <\/p>\n","protected":false},"author":10,"featured_media":22538,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[3303],"tags":[3591,5295,5941,3327,5940],"class_list":["post-22537","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-qualitaetsmanagement","tag-fraunhofer","tag-labortechnik","tag-mikroelektronik","tag-qualitaetsmanagement","tag-waferherstellung"],"acf":[],"yoast_head":"\nKontamination von Wafern besser erkennen - MQ Management und Qualit\u00e4t<\/title>\n<meta name=\"description\" content=\"Das Fraunhofer-Institut f\u00fcr Photonische Mikrosysteme IPMS erweitert seine Analysef\u00e4higkeiten im Bereich der Waferkontamination.\" \/>\n<meta name=\"robots\" content=\"index, follow, max-snippet:-1, max-image-preview:large, max-video-preview:-1\" \/>\n<link rel=\"canonical\" href=\"https:\/\/www.m-q.ch\/de\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\" \/>\n<meta property=\"og:locale\" content=\"de_DE\" \/>\n<meta property=\"og:type\" content=\"article\" \/>\n<meta property=\"og:title\" content=\"Kontamination von Wafern besser erkennen\" \/>\n<meta property=\"og:description\" content=\"Das Fraunhofer-Institut f\u00fcr Photonische Mikrosysteme IPMS erweitert seine Analysef\u00e4higkeiten im Bereich der Waferkontamination.\" \/>\n<meta property=\"og:url\" content=\"https:\/\/www.m-q.ch\/de\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\" \/>\n<meta property=\"og:site_name\" content=\"MQ Management und Qualit\u00e4t\" \/>\n<meta property=\"article:publisher\" content=\"https:\/\/www.facebook.com\/ManagementUndQualitaet\" \/>\n<meta property=\"article:published_time\" content=\"2026-03-04T08:45:48+00:00\" \/>\n<meta property=\"og:image\" content=\"https:\/\/www.m-q.ch\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/Kontamination-von-Wafern-besser-erkennen_MQ.jpg\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:width\" content=\"680\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:height\" content=\"510\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:type\" content=\"image\/jpeg\" \/>\n<meta name=\"author\" content=\"Thomas Berner\" \/>\n<meta name=\"twitter:card\" content=\"summary_large_image\" \/>\n<meta name=\"twitter:title\" content=\"#Kontamination von #Wafern besser erkennen\" \/>\n<meta name=\"twitter:description\" content=\"Das Fraunhofer-Institut f\u00fcr Photonische Mikrosysteme #IPMS erweitert seine Analysef\u00e4higkeiten im Bereich der #Waferkontamination.\" \/>\n<meta name=\"twitter:image\" content=\"https:\/\/www.m-q.ch\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/Kontamination-von-Wafern-besser-erkennen_MQ.jpg\" \/>\n<meta name=\"twitter:label1\" content=\"Verfasst von\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:data1\" content=\"Thomas Berner\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:label2\" content=\"Gesch\u00e4tzte Lesezeit\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:data2\" content=\"2\u00a0Minuten\" \/>\n<script type=\"application\/ld+json\" class=\"yoast-schema-graph\">{\"@context\":\"https:\/\/schema.org\",\"@graph\":[{\"@type\":\"Article\",\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/#article\",\"isPartOf\":{\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\"},\"author\":{\"name\":\"Thomas Berner\",\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/fr\/#\/schema\/person\/a8711938b1cfb3f056dec70eaa0b42ab\"},\"headline\":\"Kontamination von Wafern besser erkennen\",\"datePublished\":\"2026-03-04T08:45:48+00:00\",\"mainEntityOfPage\":{\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\"},\"wordCount\":297,\"publisher\":{\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/fr\/#organization\"},\"image\":{\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/#primaryimage\"},\"thumbnailUrl\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/Kontamination-von-Wafern-besser-erkennen_MQ.jpg\",\"keywords\":[\"Fraunhofer\",\"Labortechnik\",\"Mikroelektronik\",\"Qualit\u00e4tsmanagement\",\"Waferherstellung\"],\"articleSection\":[\"Qualit\u00e4tsmanagement\"],\"inLanguage\":\"de\"},{\"@type\":\"WebPage\",\"@id\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\",\"url\":\"https:\/\/www.m-q.ch\/kontamination-von-wafern-besser-erkennen\/\",\"name\":\"Kontamination von Wafern besser erkennen - 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